Los CRL pueden fabricarse mediante grabado iónico reactivo (RIE) de orificios en una oblea de silicio [por ejemplo, Ari 2000, Sch 2005] o en un sustrato de diamante [Nöh 2003]. Los orificios deben tener una geometría parabólica para evitar la aberración esférica de las lentes. Todos los elementos de lente de una oblea se fabrican en un solo paso litográfico, por lo que la alineación de los elementos de lente no es un problema. En la actualidad, la anchura de la línea de enfoque que se consigue con estas lentes es inferior a 30 nm.
Fig. 1: Esquema de una placa de lentes con cuatro CRL de enfoque lineal diferentes grabados en una oblea de silicio
Dado que el proceso RIE sólo produce orificios perpendiculares a la superficie del sustrato, no es posible fabricar lentes con un enfoque puntual en un sustrato. No obstante, puede conseguirse un enfoque puntual disponiendo dos placas de lentes perpendiculares entre sí en dos etapas de posicionamiento. Las distancias focales horizontal y vertical pueden seleccionarse de forma totalmente independiente moviendo la placa de lentes correspondiente a la fila de lentes adecuada.
Fig. 2: Dos placas de lentes en dos mesas de posicionamiento permiten un enfoque puntual
| [Ari 2000] | V. Aristov, M. Grigoriev, S. Kuznetsov, L. Shabelnikov, V. Yunkin, T. Weitkamp, C. Rau, I. Snigireva, A. Snigirev, M. Hoffmann and E. Voges, X-ray refractive planar lens with minimized absorption, Appl. Phys. Lett., vol. 77, p. 4058, DOI: 10.1063/1.1332401, 2000 |
| [Nöh 2003] | B. Nöhammer, J. Hoszowska, A. K. Freund and C. David, Diamond planar refractive lenses for third- and fourth-generation X-ray sources, J. Synchrotron Rad., vol. 10, p. 168, DOI: 10.1107/S0909049502019532, 2003 |
| [Sch 2005] | C. G. Schroer, O. Kurapova, J. Patommel, P. Boye, J. Feldkamp, B. Lengeler, M. Burghammer, C. Riekel, L. Vincze, A. van der Hart, and M. Küchler, Hard x-ray nanoprobe based on refractive x-ray lenses, Appl. Phys. Lett. 87, 124103, 2005 |